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磁控溅射制备A相二氧化钒薄膜的方法

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摘要

本发明涉及磁控溅射制备A相二氧化钒薄膜的方法，以金属钒靶或氧化钒陶瓷靶作为靶材，以氩气为溅射气体、以及以氧气为反应气体对所述靶材进行溅射以在衬底上形成A相二氧化钒薄膜。A相二氧化钒的晶胞参数为a

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1. 磁控溅射制备A相二氧化钒薄膜的方法 [P] . 中国专利： CN107779831B . 2019.08.16
2. 磁控溅射低温制备二氧化钒薄膜的方法 [P] . 中国专利： CN108220897B . 2019.11.19
3. PREPARATION METHOD OF VANADIUM PENOXIDE THIN FILMS HAVING MESOPOROUS STRUCTURE BY ELECTROCHEMICAL DEPOSITION AND VANADIUM PENOXIDE THIN FILMS PREPARED USING THE SAME [P] . 韩国专利： KR100819870B1 . 2008-04-07

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4. MAGNETRON SPUTTERING PREPARATION METHOD FOR GRADIENT SELF-DOPED PURE-PHASE MULTI-ELEMENT METAL OXIDE THIN FILM [P] . 世界知识产权组织专利： WO2020143101A1 . 2020-07-16

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5. Manufacturing method of vanadium dioxide powder having thermochromic properties and optical properties and manufacturing method of vanadium dioxide thin film using the vanadium dioxide powder [P] . 韩国专利： KR20180070015A . 2018-06-26

机译：具有热致变色性质和光学性质的二氧化钒粉末的制造方法以及使用该二氧化钒粉末的二氧化钒薄膜的制造方法