一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C₃N₄及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种光催化降解真菌毒素的杂化材料graphene/C₃N₄，它是由氧化石墨烯和纳米光催化剂g‑C₃N₄按照质量比为0.1‑10:100的比例经过水热合成法制得的具有层层组装结构的杂化材料graphene/C₃N₄；另外，本发明通过石墨烯修饰量和光降解时间等条件考察了杂化材料graphene/C₃N₄对光催化降解真菌毒素的影响。本发明通过水热法制备具有可见光响应的杂化材料graphene/C₃N₄，工艺简单，适合于工业化大批量生产，并且将光催化降解技术应用于降解真菌毒素领域具有很高的应用前景和实用价值。