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测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法

摘要

本公开提供了一种测定多孔薄膜厚度和孔隙率的方法,其对测得的至少两个测试共振光谱进行仿真拟合,得到多孔薄膜厚度d与其孔隙率P的至少两个P‑d函数关系,最后由这至少两个P‑d函数关系曲线的交点得到待测多孔薄膜的厚度及孔隙率。本公开不仅实现了直接对多孔薄膜的厚度进行测量,还可同时获得多孔薄膜的孔隙率,具有简便易行、成本低廉、无破坏性等特点,具有较好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN107270822B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院电子学研究所;

    申请/专利号CN201710558888.4

  • 发明设计人 祁志美;万秀美;高然;程进;

    申请日2017-07-10

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人曹玲柱

  • 地址 100190 北京市海淀区北四环西路19号

  • 入库时间 2022-08-23 10:35:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-05

    授权

    授权

  • 2017-11-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/06 申请日:20170710

    实质审查的生效

  • 2017-11-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20170710

    实质审查的生效

  • 2017-10-20

    公开

    公开

  • 2017-10-20

    公开

    公开

  • 2017-10-20

    公开

    公开

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