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高温下基于相场模型的硅基微结构形变机理研究方法

摘要

本发明公开了一种高温下基于相场模型的硅基微结构形变机理研究方法,按如下步骤:一、将样本即硅基微结构材料放入一定温度下变软,后将其制成U型圆柱孔状;二、将硅基微结构材料放入高温环境内处理数分钟,得于不同时间段的硅基微结构形态变化状态;三、建立高温下硅微基结构的系统模型。本发明首次利用实验研究与仿真模型于一体的方法对高温下硅基微结构形变机理研究。本发明利用高温原子扩散运动控制硅基微结构成型过程,通过仿真模型能够更加直观的观察硅基微结构的成型变化,从而提出一种加工硅基微结构的新思路。

著录项

  • 公开/公告号CN105956249B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN201610265296.9

  • 发明设计人 张俐楠;郑伟;吴立群;

    申请日2016-04-25

  • 分类号G06F17/50(20060101);

  • 代理机构33246 杭州千克知识产权代理有限公司;

  • 代理人周希良

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街

  • 入库时间 2022-08-23 10:29:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-02

    授权

    授权

  • 2016-10-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160425

    实质审查的生效

  • 2016-10-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160425

    实质审查的生效

  • 2016-09-21

    公开

    公开

  • 2016-09-21

    公开

    公开

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