首页> 中国专利> 使用两个温度传感装置调整CVD反应器过程室内温度的设备和方法

使用两个温度传感装置调整CVD反应器过程室内温度的设备和方法

摘要

本发明涉及一种用于热处理,尤其用于涂敷衬底(9)的设备和方法,包括由与第一温度传感装置(7、12)配合工作的调整器(13)调整的加热装置(11)。为防止温度偏移,建议第二温度传感装置(8)用于识别第一温度传感装置(7、12)的温度偏移和再校准第一温度传感装置(7、12)。第一温度传感装置(7、12)确定在基座(10)第一位置(M

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-08

    授权

    授权

  • 2017-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J5/00 申请日:20141215

    实质审查的生效

  • 2017-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 5/00 申请日:20141215

    实质审查的生效

  • 2016-09-07

    公开

    公开

  • 2016-09-07

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号