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相移掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法

摘要

本发明提供了一种相移掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法,属于显示领域。其中,该相移掩模板,用于制作阵列基板像素区和扇出区的信号线,所述相移掩膜板包括依次排布、与阵列基板上的多条信号线一一对应的多个遮光图案,每一遮光图案包括有至少对应于像素区信号线的第一遮光图案和除所述第一遮光图案之外的第二遮光图案,其中,在利用所述相移掩膜板进行曝光时,相邻第一遮光图案之间的第一区域下方的光刻胶接受到的光强小于相邻第二遮光图案之间的第二区域下方的光刻胶接受到的光强。本发明的技术方案能够减少像素区的信号线和扇出区的信号线之间的线宽差异。

著录项

  • 公开/公告号CN104252098B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201410480083.9

  • 发明设计人 黎午升;

    申请日2014-09-18

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人许静

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2022-08-23 10:26:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    授权

    授权

  • 2015-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/26 申请日:20140918

    实质审查的生效

  • 2015-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/26 申请日:20140918

    实质审查的生效

  • 2014-12-31

    公开

    公开

  • 2014-12-31

    公开

    公开

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