制备布图设计的方法、光掩膜、半导体器件及其制造方法

摘要

提供了制备半导体器件的布图设计的方法、光掩模、利用该布图设计制造的半导体器件及其制造方法。制备半导体器件的布局设计的步骤可以包括将辅助图案设置在位于薄弱的有源图案上的主栅极图案附近。薄弱的有源图案可以是例如有源图案中的最外侧的有源图案，并且可以是预期在制造工艺期间宽度增大的有源图案。