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一种减少SiC晶体生长中缺陷产生的方法

摘要

本发明涉及一种减少SiC晶体生长中缺陷产生的方法,是在常用的物理气相传输法生长碳化硅单晶的基础上做进一步改进,包括:(1)配制石墨胶;(2)用单面刀片把石墨胶均匀的涂在籽晶非生长面和石墨板的粘接面,然后上石墨胶的两个面叠在一起,尽少量的石墨胶将石墨板与籽晶粘接好;(3)加热使石墨胶固化。本发明的有益效果是:解决了气孔与高温碳化后的粘合剂之间导热性的差异将导致的籽晶背面温度分布不均匀问题,减少了晶体生长过程中由背面蒸发导致的六方空洞缺陷,极大地提高了碳化硅晶体质量及产率。

著录项

  • 公开/公告号CN106245110B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河北同光晶体有限公司;

    申请/专利号CN201610750958.1

  • 发明设计人 郑清超;杨坤;

    申请日2016-08-30

  • 分类号C30B23/00(20060101);C30B29/36(20060101);

  • 代理机构11254 北京连城创新知识产权代理有限公司;

  • 代理人郝学江

  • 地址 071051 河北省保定市北二环路5699号大学科技园6号楼B座四楼

  • 入库时间 2022-08-23 10:23:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-28

    授权

    授权

  • 2017-01-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B23/00 申请日:20160830

    实质审查的生效

  • 2017-01-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 23/00 申请日:20160830

    实质审查的生效

  • 2016-12-21

    公开

    公开

  • 2016-12-21

    公开

    公开

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