一种基于虚拟阴极沉积（VCD）的薄膜制造工艺

摘要

一种虚拟阴极沉积装置，利用虚拟等离子体阴极产生高密度电子束以消融固体靶材。高压电脉冲电离气体产生的等离子体短时间出现在靶材前方，作为靶材附近的虚拟等离子体阴极。然后这种等离子体消失，允许被消融的靶材以等离子体羽流的形式流向衬底。多个虚拟阴极同时提供羽流以汇合成一个均匀的等离子体羽流，该等离子体羽流在附近的衬底上冷凝以导致大范围的均匀厚度薄膜的沉积。