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去除硅中的杂质及提高其少数载流子寿命的方法

摘要

一种用于提高受到过渡金属尤其是铁污染的硅本体的少数载流子复合寿命的方法。将所述硅本体在至少200℃的温度下存放至少48小时,所述的存放温度和存放时间足以使这些金属从硅本体的体内区域扩散到其表面,从而明显可测地提高少数载流子复合寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN1034893C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日1997-05-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MEMC电子材料有限公司;

    申请/专利号CN93117900.9

  • 发明设计人 R·法尔斯特;

    申请日1993-09-23

  • 分类号H01L21/02;C30B33/00;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人杨丽琴

  • 地址 美国密苏里州

  • 入库时间 2022-08-23 08:54:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-11-23

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 1997-05-14

    授权

    授权

  • 1996-01-10

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1994-05-25

    公开

    公开

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