首页> 中国专利> 中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法

中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法

摘要

中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法。在初次使用中间掩模时,将中间掩模实际装入装置中,进行斜向测量/随机测量,由此,即使不增加采样数,也能够避免成为偏差采样的危险性,取得作为总体的中间掩模整体的中间掩模透射率。此外,使通常固定的计测光点尺寸可变,并进行与该计测光点尺寸对应的入射角度变更,由此,也能够得到相同的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN105511232B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾普凌科有限公司;

    申请/专利号CN201510632834.9

  • 发明设计人 村田通博;五味丰;

    申请日2015-09-29

  • 分类号

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本千叶县

  • 入库时间 2022-08-23 10:18:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-28

    授权

    授权

  • 2018-04-13

    著录事项变更 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 申请日:20150929

    著录事项变更

  • 2018-04-13

    著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20150929

    著录事项变更

  • 2017-07-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150929

    实质审查的生效

  • 2017-07-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150929

    实质审查的生效

  • 2017-07-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150929

    实质审查的生效

  • 2016-04-20

    公开

    公开

  • 2016-04-20

    公开

    公开

  • 2016-04-20

    公开

    公开

  • 2016-04-20

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号