公开/公告号CN1311720C
专利类型发明授权
公开/公告日2007-04-18
原文格式PDF
申请/专利权人 大研化学工业株式会社;
申请/专利号CN02812649.1
申请日2002-07-18
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人杜日新
地址 日本大阪
入库时间 2022-08-23 08:59:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-13
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05K 3/02 授权公告日:20070418 终止日期:20090818 申请日:20020718
专利权的终止
2007-04-18
授权
授权
2004-10-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-08-11
公开
公开
机译: 在包括电路基板的物体表面上形成图像的方法
机译: 在包括电路基板的物体表面上形成图像的方法
机译: 整体式流体喷射单元的生产方法,包括在基板的两个相对的表面上形成加热元件,信号传输电路以及在该基板的一个表面上的电流生菌层。