公开/公告号CN105206495B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-07
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201510504223.6
发明设计人 刘思洋;
申请日2015-08-17
分类号
代理机构广州三环专利商标代理有限公司;
代理人郝传鑫
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
入库时间 2022-08-23 10:15:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-07
授权
授权
2016-01-27
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20150817
实质审查的生效
2015-12-30
公开
公开
机译: 电极盖,具有干式蚀刻装置的干式蚀刻装置以及具有干式蚀刻装置的统一蚀刻装置
机译: 香槟型材的干式蚀刻方法及干式蚀刻装置
机译: 形成装备在干蚀刻机中的底部电极的方法,该干蚀刻机制造用于平面内开关IPS模式LCD的阵列基板