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电感耦合等离子体中用于改善等离子体分布及性能的设备和方法

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一种等离子体用于处理衬底的处理系统(12)包括：限定处理空间(14)的处理室(13)以及将处理气体(22)导入上述处理空间(14)的气体入口(20)，处理室(13)中具有用于支撑衬底(18)的衬底支撑件(17)。等离子体源包括一个与处理室(13)接界并靠近处理空间(14)的介电窗(24a)，以及靠近介电窗(24a)并置于处理室(13)之外的电感元件(10)。电感元件(10)可用于耦合电能(26b)穿过介电窗进入处理空间(14)，并在其中产生等离子体(28)，该电感元件包括多种可替换的结构来产生密集，均匀的等离子体。

著录项

公开/公告号CN1307679C

专利类型发明授权
公开/公告日2007-03-28

原文格式PDF
申请/专利权人东京毅力科创株式会社;
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申请/专利号CN02811040.4
发明设计人约瑟夫·布尔卡;
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申请日2002-04-17
分类号H01J37/32(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人刘兴鹏
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 08:59:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-06-01

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/32 授权公告日:20070328 终止日期:20150417 申请日:20020417

专利权的终止
2007-03-28

授权

授权
2004-09-22

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-07-14

公开

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