在电感耦合的等离子体内改善等离子体分布及性能的设备

摘要

一种采用等离子体(28)处理衬底(18)的处理系统(12)包括：处理室(13)，该处理室确定了一处理空间(14)并包括在该空间内支承衬底(18)的衬底支承件(17)；将处理气体导入上述处理空间(14)的气体入口(20)。一个自引入处理空间(14)内的处理气体产生一等离子体(28)的等离子体源。该等离子体源包括一个与处理室(13)接界并靠近处理空间(14)的介电窗(24a)，以及一个靠近介电窗(24a)并置于处理室(13)外的电感元件(10)。该电感元件(10)可耦合电能穿过介电窗(24a)进入处理空间(14)并在其中产生等离子体(28)，该电感元件包括多种可选结构来产生密集均匀的等离子体。