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用于对准掩模段的对准装置和方法

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一种对准装置，用来将一个具有一些磁性掩模段的淀积掩模相对于衬底定位，以利于有机材料同时淀积到衬底上，衬底将是有机发光器件的一部分。

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公开/公告号CN1279629C

专利类型发明授权
公开/公告日2006-10-11

原文格式PDF
申请/专利权人伊斯曼柯达公司;
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申请/专利号CN02154095.0
发明设计人 T·K·克拉克;
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申请日2002-12-10
分类号H01L33/00(20060101);H01L51/40(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人肖春京;郑建晖
地址美国纽约州
入库时间 2022-08-23 08:59:02

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-06-30

专利权的转移 IPC(主分类):H01L 33/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20100525 申请日:20021210

专利申请权、专利权的转移
2006-10-11

授权

授权
2004-10-27

实质审查的生效

实质审查的生效
2003-06-18

公开

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专利
中文文献
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