首页> 外国专利> Reference image for the alignment of masks for the production of microcircuits, a method for aligning a mask with a microprocessor circuit disk and a method and apparatus for sensing and aligning of such reference images

Reference image for the alignment of masks for the production of microcircuits, a method for aligning a mask with a microprocessor circuit disk and a method and apparatus for sensing and aligning of such reference images

机译:用于微电路生产的掩模对准的参考图像,将掩模与微处理器电路盘对准的方法以及用于感测和对准这种参考图像的方法和装置

摘要

A target for use in aligning masks used in producing microcircuits which is of a size that can be printed on a microcircuit chip without interfering with the lines thereon, consisting only of lines vertically or diagonally disposed with respect to the image transducer is disclosed. Also disclosed is an automatic system for aligning such targets.
机译:公开了一种用于对准用于制造微电路的掩模的靶,该靶的尺寸可以被印刷在微电路芯片上而不会干扰其上的线,该线仅由相对于图像传感器垂直或对角地设置的线组成。还公开了一种用于对准这种目标的自动系统。

著录项

  • 公开/公告号DE3006578A1

    专利类型

  • 公开/公告日1980-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PERKIN ELMER CORP;

    申请/专利号DE19803006578

  • 发明设计人 BERRY DANIEL HERBERT US;MARKLE DAVID A US;

    申请日1980-02-21

  • 分类号G03F9/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 17:29:05

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号