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用于对准半导体装置参考图像及测试图像的系统及方法

摘要

本发明揭示一种方法,其可包含(但不限于)接收晶片的多个参考图像。所述方法可包含(但不限于)接收所述晶片的多个测试图像。所述方法可包含(但不限于)经由粗略对准过程来对准所述多个参考图像及所述多个测试图像。所述方法可包含(但不限于)在经由所述粗略对准过程的对准之后,经由精细对准过程来对准所述多个参考图像及所述多个测试图像。所述精细对准过程可包含测量所述多个参考图像中的至少一者与所述多个测试图像之间的个别偏移及校正个别偏移数据。

著录项

  • 公开/公告号CN111316413B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201880072156.7

  • 发明设计人 陈宏;M·库克;P·库马尔;K·吴;

    申请日2018-11-05

  • 分类号H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘丽楠

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 12:46:28

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