用于形成SRAM鳍部的掩膜版组件以及鳍部的制作方法

摘要

本申请公开了一种用于形成SRAM鳍部的掩膜版组件以及鳍部的制作方法。该掩膜版组件包括第一掩膜版和第二掩膜版，其中第一掩膜版包括至少两组第一图形单元，每组第一图形单元包括第一光阻挡区和第一光透过区；第二掩膜版包括与每组第一图形单元的位置对应设置的第二图形单元，每组第二图形单元包括第三光透过区和第三光阻挡区，其中，第一掩膜版还包括：第二光阻挡区，设置于相邻第一图形单元之间；第二光透过区，设置于相邻第一图形单元之间；第二掩膜版还包括：第四光透过区，与第二光阻挡区的位置对应设置；第四光阻挡区，设置于相邻第二图形单元之间，且位于第四光透过区的两侧。该掩膜版组件中图形的均匀性得以提高。