首页> 中国专利> 一种利用量子阱混杂制作的基模半导体激光器及制作方法

一种利用量子阱混杂制作的基模半导体激光器及制作方法

摘要

本发明公开了一种利用量子阱混杂制作的基模半导体激光器,激光器所用外延片结构由从下至上依次设置的衬底,缓冲层,下限制层,下波导层,量子阱和量子垒区,上波导层,上限制层和上欧姆接触层组成;基模半导体激光器结构的上欧姆接触层的上表面设置有脊型波导,脊型波导位于基模半导体激光器的纵向中心线上,脊型波导的两端均设置有非吸收窗口,非吸收窗口与激光器的出腔面重合,脊型波导的两侧还设置有隔离沟槽,非吸收窗口和隔离沟槽下量子阱中形成禁带宽度变宽的区域,本发明的利用量子阱混杂制作的基模半导体激光器,具有更好的光场限制效果。本发明还公开了一种制作上述基模半导体激光器的方法,制作工艺简单,且具有更好的光场限制效果。

著录项

  • 公开/公告号CN104795730B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安理工大学;

    申请/专利号CN201510170072.5

  • 申请日2015-04-10

  • 分类号H01S5/343(20060101);

  • 代理机构61214 西安弘理专利事务所;

  • 代理人李娜

  • 地址 710048 陕西省西安市金花南路5号

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-02

    专利权的转移 IPC(主分类):H01S5/343 登记生效日:20181016 变更前: 变更后: 申请日:20150410

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-04-10

    授权

    授权

  • 2015-08-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/343 申请日:20150410

    实质审查的生效

  • 2015-07-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号