法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-09-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/06 授权公告日:20060802 终止日期:20100725 申请日:20030725
专利权的终止
2006-08-02
授权
授权
2004-06-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-04-07
公开
公开
机译: Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
机译: 化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法,以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
机译: Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法