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用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料

摘要

本发明公开了属于磁学量传感器材料的一种用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料。是在Si(100)基片上,用不同比例的Ni-C复合冷压靶材,在3-5Pa氩气条件下,利用PLD方法在一定温度下沉积得Ni-C薄膜。在同样制备条件下,不同靶材成分,其薄膜厚度不同,薄膜厚度约为:30-120nm。该材料在温度为300K、外加磁场为1T的条件下的正巨磁阻效应可高达13%,此后,随外加磁场的增加而增加。Ni-C材料价格低廉,性能优越,是一种很好的磁传感器材料。

著录项

  • 公开/公告号CN1267575C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN03146161.1

  • 发明设计人 章晓中;薛庆忠;田鹏;

    申请日2003-07-25

  • 分类号

  • 代理机构北京众合诚成知识产权代理有限公司;

  • 代理人李光松

  • 地址 100084 北京市100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/06 授权公告日:20060802 终止日期:20100725 申请日:20030725

    专利权的终止

  • 2006-08-02

    授权

    授权

  • 2004-06-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-04-07

    公开

    公开

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