照相铜版移相掩模、及其制造方法和制造装置

摘要

在HT的布线图案(1)的透明缺陷的中心部分，形成透射率为0～2%范围内的遮光区域(11)。另外，在从无缺陷时的假想图案的边缘内侧区域到该边缘外侧区域，形成透射率为10～25%范围内的与遮光区域(11)邻接的区域即半透明区域(12)。从而得到在HT掩模的缺陷修补中，能够使缺陷修补部分的加工精度容限增大的光刻掩模。