公开/公告号CN103681251B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-02-09
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN201210353673.6
申请日2012-09-20
分类号H01L21/027(20060101);H01L21/033(20060101);
代理机构11345 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人陈红
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3#
入库时间 2022-08-23 10:07:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-09
授权
授权
2015-07-01
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20120920
实质审查的生效
2014-03-26
公开
公开
机译: 电子束光刻技术,用于光学元件的金属模具的制造方法,光学元件的制造方法以及电子束光刻技术
机译: 高Z结构的光学和电子束光刻技术混合层的共校准方法
机译: 光学和电子束光刻技术的混合层的高Z结构和共校准方法