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一种背钝化晶硅太阳电池及其制备方法

摘要

本发明公开了一种背钝化晶硅太阳电池及其制备方法,该太阳电池背钝化晶硅太阳电池背表面含有超薄氧化铝及高功函数过渡金属氧化物叠层钝化膜,置于p型晶体硅和背电极之间;超薄氧化铝及高功函数过渡金属氧化物叠层膜用于钝化接触p型晶体硅背表面;制备方法包括采用原子层淀积法制备超薄氧化铝层;选用热蒸发法或等离子增强原子层淀积法制备金属氧化物层。本发明能够降低背表面光损失和载流子复合损失,从而提升电池的光电转换效率;同时超薄氧化铝及高功函数过渡金属氧化物叠层能够收集和传输空穴,仅需原子层淀积和热蒸发镀膜工艺制备获得,避免了进一步使用工艺难度大、所需设备昂贵的激光开孔工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN106449813B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 王行柱;吕文辉;

    申请/专利号CN201610938561.5

  • 申请日2016-10-24

  • 分类号

  • 代理机构北京金智普华知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨采良

  • 地址 518110 广东省深圳市龙华新区观澜观光路1165号

  • 入库时间 2022-08-23 10:06:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/0352 授权公告日:20180102 终止日期:20181024 申请日:20161024

    专利权的终止

  • 2018-01-02

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0352 申请日:20161024

    实质审查的生效

  • 2017-02-22

    公开

    公开

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