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用于三维(3D)半导体器件的原子探头层析成像样本制备的方法

摘要

提供了一种用于三维(3D)半导体器件的原子探头层析成像(APT)样本制备的方法。所述方法可以包括测量3D场效应晶体管器件的电容-电压(C‑V)特性,并基于测得的电容-电压(C‑V)特性,识别出对应于3D场效应晶体管器件的鳍结构。采用纳米操纵器探头顶端使所识别出的鳍结构与3D场效应晶体管器件分离。之后采用具有低于大约1000eV的电压的入射聚焦离子束将分离的鳍焊接到纳米操纵器探头顶端上。向焊接到纳米操纵器探头顶端的鳍的顶端施加具有低于大约1000eV的电压的入射聚焦离子束。之后,可以通过聚焦离子束将鳍的顶端修尖。

著录项

  • 公开/公告号CN104701203B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际商业机器公司;

    申请/专利号CN201410680163.9

  • 发明设计人 T·L·卡恩;J·M·沃尔什;

    申请日2014-11-24

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人边海梅

  • 地址 美国纽约

  • 入库时间 2022-08-23 10:05:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-09

    授权

    授权

  • 2015-07-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20141124

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    公开

    公开

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