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抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置

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摘要

本发明公开了抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置。该抗蚀剂下层组合物包括包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。在上述化学式1中，A

著录项

公开/公告号CN104122754B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-05

原文格式PDF
申请/专利权人第一毛织株式会社;
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申请/专利号CN201310546101.4
发明设计人权孝英;金民兼;李俊昊;田桓承;
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申请日2013-11-06
分类号
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;
代理人余刚
地址韩国庆尚北道
入库时间 2022-08-23 10:05:37

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-01-05

授权

授权
2014-12-03

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20131106

实质审查的生效
2014-10-29

公开

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1. 抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置 [P] . 中国专利： CN104122754B . 2018.01.05
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3. COMPOSITION FOR FORMING A PHOTORESIST UNDERLAYER FILM CAPABLE OF FORMING A PHOTORESIST PATTERN WITH AN EXCELLENT RESOLUTION, A PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME, AND A SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERN [P] . 韩国专利： KR20130078758A . 2013-07-10

机译：形成能够形成具有优异分辨率的光致抗蚀剂图案的光致抗蚀剂下层膜的组合物，使用相同的图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置
4. COMPOUNDS AND METHODS FOR MANUFACTURING THE SAME, COMPOSITIONS, COMPOSITIONS FOR OPTICAL COMPONENTS FOR FORMING, FILM FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, RADIATELY RADIATING COMPOSITION, AMOLUTION FILM PRODUCTION METHOD, LITHOGRAPHY RUBBER FILM FORMING MATERIAL, A composition for forming a lower layer film, a method for producing a lower layer film for lithography, a resist pattern forming method, a circuit pattern forming method, and a refining method [P] . 韩国专利： KR20180051533A . 2018-05-16

机译：用于制造相同化合物的组合物和方法，用于形成的光学组分的组合物，用于光刻的膜形成组合物，抗蚀剂组合物，用于形成抗蚀剂图案的方法，用于制造辐射图案的组合物，用于制造膜的胶片，用于制造薄膜的方法，用于胶片的方法形成下层膜，用于光刻的下层膜的制造方法，抗蚀剂图案形成方法，电路图案形成方法和精制方法
5. Film forming material, film forming composition for lithography, optical component forming material, resist composition, resist pattern forming method, permanent film for resist, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, underlayer film forming material for lithography, lower layer for lithography Film forming composition, manufacturing method of underlayer film for lithography and circuit pattern forming method [P] . 韩国专利： KR20200022391A . 2020-03-03

机译：成膜材料，用于光刻的成膜组合物，光学部件形成材料，抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，用于抗蚀剂的永久膜，辐射敏感性组合物，非晶膜的制造方法，用于光刻的下层膜形成材料，用于光刻的下层成膜组合物，用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法