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机译:使用可旋转涂覆的ZrO2抗蚀剂的纳米光刻技术及其在化合物半导体上小于10 nm的直接图案转移中的应用
THERMAL-DECOMPOSITION; INDUCED DAMAGE; ELECTRON-BEAM; INP SURFACES; FABRICATION; HYDROGEN;
机译:使用可旋转涂覆的ZrO2抗蚀剂的纳米光刻技术及其在化合物半导体上小于10 nm的直接图案转移中的应用
机译:10 nm以下PTMSS-b-PMOST的双图案侧壁定向自组装和图案转移
机译:小于10 nm纳米光刻的改性PS-b-PMMA的合成和定向自组装
机译:使用溶胶衍生Zro {sub} 2的III-V化合物半导体上的亚10nm纳米光谱和直接图案转移
机译:嵌段共聚物在压缩二氧化碳中的相行为以及作为单畴层纳米光刻抗蚀剂的亚10纳米图案转移
机译:低于10 nm的TiO2纳米粒子自组装单层的电阻转换
机译:用于嵌段共聚物定向自组装的亚10 nm无阻纳米光刻