应用于光学补偿膜曝光的制程及其装置

摘要

一种应用于光学补偿膜曝光的制程包括：提供第一卷状胶膜，以形成基板；涂布光敏感性高分子于基板上；提供一紫外线光源；提供一聚光透镜，聚集紫外线以形成平行光束；提供一偏极光发生器，具有设置于聚光透镜与第一卷状胶膜之间的数层石英片，以接收平行光束，且同时获得反射紫外偏极光及穿透紫外偏极光，利用该后者照射第一卷状胶膜而极化第一光敏感性高分子层；涂布一液晶高分子，经加热及紫外光聚合后获得具有X方向光轴的光学异方性的胶膜；涂布光敏感性高分子以获第二光敏感层，利用反射紫外偏极光照射而极化第二光敏感层；涂布液晶高分子，经加热程序而获得一具有Y方向光轴的光学异方性的胶膜，以合成一具有双光轴特性的卷状光学补偿膜。