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含有钼的薄膜的制造方法、薄膜形成用原料及钼酰亚胺化合物

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摘要

本发明的薄膜的制造方法中将含有钼酰亚胺化合物的蒸汽导入至基体上，使其分解和/或发生化学反应，从而在基体上形成含有钼的薄膜，所述钼酰亚胺化合物是使含有下述通式(I)所示的钼酰亚胺化合物而成的薄膜形成用原料汽化来获得的。本发明的薄膜形成用原料是含有下述通式(I)所示的钼酰亚胺化合物而成的。式中，R

1. 含有钼的薄膜的制造方法、薄膜形成用原料及钼酰亚胺化合物 [P] . 中国专利： CN104603327B . 2017.12.01
2. 含有氧化钼的薄膜的制造方法、含有氧化钼的薄膜的形成用原料以及钼酰胺化合物 [P] . 中国专利： CN103562434A . 2014-02-05
3. Manufacturing method of thin film containing molybdenum, raw material for forming thin film, and molybdenum imide compound [P] . 日本专利： JPWO2014077073A1 . 2017-01-05

机译：含钼的薄膜的制造方法，形成薄膜的原料以及酰亚胺化的钼化合物
4. Manufacturing method of thin film containing molybdenum, raw material for forming thin film, and molybdenum imide compound [P] . 日本专利： JP6198280B2 . 2017-09-20

机译：含钼的薄膜的制造方法，形成薄膜的原料以及酰亚胺化的钼化合物
5. METHOD FOR PRODUCING THIN FILM CONTAINING MOLYBDENUM THIN FILM-FORMING STARTING MATERIAL AND MOLYBDENUM IMIDE COMPOUND [P] . 韩国专利： KR102149490B1 . 2020-08-28

机译：包含钼的薄膜的制备方法薄膜形成的起始材料和钼酰亚胺化合物