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含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物

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摘要

通过使用含有成像聚合物的光刻胶组合物得到的酸催化的正性光刻胶组合物，其可用193nm辐射和/或其它辐射成像并可显影形成具有改进的显影特性和改进的耐蚀刻性的光刻胶结构，该成像聚合物含有具有侧基的单体，该侧基含有多个酸不稳定部分。优选的包含多个酸不稳定部分的侧基的特征在于具有大体积端基。

公开/公告号CN1272668C

专利类型发明授权
公开/公告日2006-08-30

原文格式PDF
申请/专利权人国际商业机器公司;
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申请/专利号CN02809987.7
发明设计人 R·V·普什卡拉;M·C·劳森;W·李;
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申请日2002-04-22
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/32(20060101);G03F7/38(20060101);G03F7/40(20060101);
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人龙传红
地址美国纽约
入库时间 2022-08-23 08:58:38

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-04-14

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/004 授权公告日:20060830 终止日期:20190422 申请日:20020422

专利权的终止
2017-12-22

专利权的转移 IPC(主分类):G03F7/004 登记生效日:20171204 变更前: 变更后: 申请日:20020422

专利申请权、专利权的转移
2017-12-22

专利权的转移 IPC(主分类):G03F7/004 登记生效日:20171204 变更前: 变更后: 申请日:20020422

专利申请权、专利权的转移
2017-12-22

专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 登记生效日:20171204 变更前: 变更后: 申请日:20020422

专利申请权、专利权的转移
2017-12-22

专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 登记生效日:20171204 变更前: 变更后: 申请日:20020422

专利申请权、专利权的转移
2006-08-30

授权

授权
2006-08-30

授权

授权
2006-08-30

授权

授权
2004-11-17

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-11-17

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-11-17

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-09-15

公开

公开
2004-09-15

公开

公开
2004-09-15

公开

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1. 含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物 [P] . 中国专利： CN1272668C . 2006.08.30
2. 含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物 [P] . 中国专利： CN1251021C . 2006.04.12
3. Resist system, useful for lithographic procedures, e.g. for preparing semiconductor components, comprises polymer/copolymer with acid labile group and cyclic polysiloxane containing group and/or cross linked polysiloxane containing group [P] . 德国专利： DE102004037527A1 . 2006-03-23

机译：光刻胶系统，对光刻工艺很有用，例如用于制备半导体部件的方法，包括具有酸不稳定基团的聚合物/共聚物和含环状聚硅氧烷的基团和/或含交联聚硅氧烷的基团
4. Resist compositions with polymers having pendant groups containing plural acid labile moieties [P] . 美国专利： US6534239B2 . 2003-03-18

机译：用具有含多个酸不稳定部分的侧基的聚合物的抗蚀剂组合物
5. Resist compositions with polymers having pendant groups containing plural acid labile moieties [P] . 美国专利： US2002182534A1 . 2002-12-05

机译：用具有含多个酸不稳定部分的侧基的聚合物的抗蚀剂组合物