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含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物

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摘要

本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物，包括光致酸引发剂和多环聚合物，该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。通过图像辐射源曝光，光致酸引发剂产生使酸不稳定侧基分裂的酸，使聚合物中的极性改变。在按图像光源曝光的区域使聚合物具有碱水溶液可溶性。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-10-22

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/039 授权公告日:20060412 终止日期:20130903 申请日:19980903

专利权的终止
2014-10-22

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/039 授权公告日:20060412 终止日期:20130903 申请日:19980903

专利权的终止
2006-04-12

授权

授权
2006-04-12

授权

授权
2003-10-22

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更前: 变更后: 变更前: 变更后: 登记生效日:20030827 申请日:19980903

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2003-10-22

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030827 申请日:19980903

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2003-10-22

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030827 申请日:19980903

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2003-10-22

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030827 申请日:19980903

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
2000-12-20

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
2000-12-20

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
2000-12-13

公开

公开
2000-12-13

公开

公开

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1. 含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物 [P] . 中国专利： CN1251021C . 2006.04.12
2. 包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物 [P] . 中国专利： CN1198181C . 2005.04.20
3. Photoresist composition consisting of polycyclic polymers with acid labile pendant groups [P] . 日本专利： JP3962432B2 . 2007-08-22

机译：由具有酸不稳定侧基的多环聚合物组成的光刻胶组合物
4. The photoresist composition consisting of polycyclic polymers with acid labile pendant groups [P] . 日本专利： JP2000508080A . 2000-06-27

机译：由具有酸不稳定侧基的多环聚合物组成的光刻胶组合物
5. Resist compositions with polymers having pendant groups containing plural acid labile moieties [P] . 美国专利： US6534239B2 . 2003-03-18

机译：用具有含多个酸不稳定部分的侧基的聚合物的抗蚀剂组合物