机译:包含四氢吡喃基作为酸不稳定聚合物的正性光刻胶,用于彩虹全息图
Chemical amplification; Diphenyliodonium salt; Photoinitiators; Resists; Light;
机译:包含四氢吡喃基作为酸不稳定聚合物的正性光刻胶,用于彩虹全息图
机译:包含四氢吡喃基作为酸性不稳定聚合物的正性工作光刻胶,用于彩虹全息图
机译:酸不稳定的断链聚合物体系,用作可在超临界CO2中显影的正性光刻胶
机译:使用四氢吡喃基和四氢呋喃基保护苯乙烯马来酸酐半酯聚合物的光致抗蚀剂
机译:聚合物系统的原位和在线表征:聚合物复合材料的固化监控和化学放大光刻胶的光谱研究
机译:SU-8光刻胶中的体积全息图形成
机译:基于部分O-叔丁氧基羰基甲基化 - 四-C-甲基丙烯酰基4间苯二酚和光酸发生器的新的正面工作碱性显影剂。
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性