法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/038 授权公告日:20171205 终止日期:20190422 申请日:20130422
专利权的终止
2017-12-26
专利权的转移 IPC(主分类):G03F7/038 登记生效日:20171207 变更前: 变更后: 申请日:20130422
专利申请权、专利权的转移
2017-12-05
授权
授权
2013-11-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/038 申请日:20130422
实质审查的生效
2013-10-30
公开
公开
机译: 包含用于负显影的受保护的羟基的光致抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
机译: 图案形成方法,图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物,图案形成方法中使用的负性显影液和图案形成方法中使用的用于负显影的冲洗液
机译: 图案形成方法,图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物,图案形成方法中使用的负性显影液和图案形成方法中使用的用于负显影的冲洗液