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覆晶芯片失效分析方法及电性定位中检测样品的制备方法

摘要

本发明公开了一种覆晶芯片失效分析方法及电性定位中检测样品的制备方法,所述制备方法包括:提供待测的覆晶芯片,包括封装基底与制备于封装基底上的裸片,裸片的外部覆盖有塑封体,裸片与封装基底之间连接有金凸块,封装基底的底部焊接有锡球;研磨裸片外部的塑封体直至裸露出裸片的晶背;将裸片的背面结合到一玻璃基板上,玻璃基板上设有导电片;用封装绑线将玻璃基板上的导电片与封装基底底部的锡球电性连接,以得到检测样品。本发明覆晶芯片失效分析检测样品的制备方法,通过研磨掉裸片的背面的塑封体,再将裸片的背面结合在玻璃基板上进行失效分析,不必腐蚀塑封体以及分离封装基底与裸片,从而避免了取裸片的过程中金凸块被腐蚀的可能性。

著录项

  • 公开/公告号CN105206546B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宜特(上海)检测技术有限公司;

    申请/专利号CN201510572283.1

  • 发明设计人 李鹏云;刘国庆;葛金发;曾元宏;

    申请日2015-09-10

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构31229 上海唯源专利代理有限公司;

  • 代理人曾耀先

  • 地址 201103 上海市闵行区宜山路1618号8幢C101室

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-07

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/66 变更前: 变更后: 申请日:20150910

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-11-21

    授权

    授权

  • 2017-11-21

    授权

    授权

  • 2016-01-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20150910

    实质审查的生效

  • 2016-01-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20150910

    实质审查的生效

  • 2016-01-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20150910

    实质审查的生效

  • 2015-12-30

    公开

    公开

  • 2015-12-30

    公开

    公开

  • 2015-12-30

    公开

    公开

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