公开/公告号CN1254512C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-05-03
原文格式PDF
申请/专利权人 积水化学工业株式会社;
申请/专利号CN01820176.8
申请日2001-12-10
分类号C08L101/00(20060101);C08K3/34(20060101);C08J5/00(20060101);B32B27/20(20060101);H01L23/14(20060101);H01B3/00(20060101);H05K1/03(20060101);H05K3/46(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人丁香兰
地址 日本大阪
入库时间 2022-08-23 08:58:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-04
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08L 101/00 授权公告日:20060503 终止日期:20131210 申请日:20011210
专利权的终止
2006-05-03
授权
授权
2004-05-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-03-03
公开
公开
机译: 绝缘基材,印刷电路板,层压板,树脂涂覆的铜箔,覆铜层压板,聚酰亚胺薄膜,薄膜和预浸料的TAB
机译: 绝缘基材,印刷电路板,层压板,树脂涂覆的铜箔,覆铜层压板,聚酰亚胺薄膜,薄膜和预浸料的TAB
机译: 用于绝缘基材,印制板,层压板,铜箔树脂的材料,覆铜箔层压板,聚酰亚胺薄膜,TAB薄膜和预浸料的材料