法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-09-01
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/283 授权公告日:20060517 申请日:20030618
专利权的终止
2006-05-17
授权
授权
2004-04-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-01-28
公开
公开
机译: 高介电系数薄膜材料和电容器
机译: 铁电薄膜材料和铁电薄膜材料的制造方式以及使用该铁电薄膜材料的电介质抹布计的制造方式是使用铁电薄膜材料的电介质抹布计的制造方式
机译: 载有高介电系数栅极电介质膜的工艺