构图低介电常数介电层的方法

摘要

一种构图低介电常数介电层的方法。直接暴露在高能量流下来构图低介电常数介电层，而不需要使用任何的光刻胶层，借以使低介电常数介电层曝光的部分固化，而变的不溶于显影溶液中，低介电常数介电层未曝光的部分则会溶解在显影溶液中，并将会在显影步骤中被移除，组件的效能与可靠度均可因此得到改善，且可以简化工艺步骤。