首页> 中国专利> 在衬底不同深度有接触着陆区的装置的形成方法及3‑D结构

在衬底不同深度有接触着陆区的装置的形成方法及3‑D结构

摘要

本发明公开了一种在衬底不同深度有接触着陆区的装置的形成方法及3‑D结构,该3‑D结构是使用上述方法所制造,包括在不同深度的有源层的一叠层,此叠层具有多个接触着陆区于一接触区开口内个别的有源层上。多个层间导体各包括于接触区开口内延伸至一接触着陆区的一第一部分,和在高于最上方的有源层处部分地落在接触区开口外的一第二部分。第一部分具有名义上相等于接触区开口的横向尺寸的一横向尺寸Y1,第二部分具有大于接触区开口的横向尺寸的一横向尺寸Y2。有源层可为一3‑D存储器装置的位线或字线、或集成电路中的其他有源层。

著录项

  • 公开/公告号CN104051326B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201310331662.2

  • 发明设计人 陈士弘;

    申请日2013-08-01

  • 分类号H01L21/768(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人任岩

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号

  • 入库时间 2022-08-23 10:01:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-29

    授权

    授权

  • 2014-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20130801

    实质审查的生效

  • 2014-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20130801

    实质审查的生效

  • 2014-09-17

    公开

    公开

  • 2014-09-17

    公开

    公开

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