公开/公告号CN104051326B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-29
原文格式PDF
申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;
申请/专利号CN201310331662.2
发明设计人 陈士弘;
申请日2013-08-01
分类号H01L21/768(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人任岩
地址 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号
入库时间 2022-08-23 10:01:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-29
授权
授权
2014-10-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20130801
实质审查的生效
2014-10-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20130801
实质审查的生效
2014-09-17
公开
公开
2014-09-17
公开
公开
机译: 装置的生产例如铁电随机存取存储器包括形成衬底,具有互补金属氧化物半导体结构的钝化区和/或表面区并与电容器装置接触
机译: 具有在衬底表面上形成阱区并与缓冲层接触以增加击穿电压的III族氮化物HEMT及其形成方法
机译: 半导体结构绝缘体上硅结构,形成方法,涉及在去除掩模之前/期间以受控方式在半导体衬底中形成直至掩模下表面水平的绝缘区。