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针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料

摘要

为了针对一种用于半导体处理腔室的制品制造涂层,该制品包括Al、Al2O3或SiC中的至少一者的主体及主体上的陶瓷涂层。陶瓷涂层包括一化合物,该化合物包含自约50摩尔%至约75摩尔%范围内的Y2O3、自约10摩尔%至约30摩尔%范围内的ZrO2及自约10摩尔%至约30摩尔%范围内的Al2O3,其中每英寸节结的数目处于自约30个节结至约45个节结的范围内且孔隙率处于自约2.5%至约3.2%的范围内。

著录项

  • 公开/公告号CN104704606B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201380039967.4

  • 申请日2013-07-26

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L21/205(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人黄嵩泉

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-01

    授权

    授权

  • 2015-08-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20130726

    实质审查的生效

  • 2015-08-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20130726

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    公开

    公开

  • 2015-06-10

    公开

    公开

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