陀螺光学元件石英衬底材料CMP抛光表面粗糙度的控制方法

摘要

本发明涉及一种陀螺光学元件石英衬底材料CMP抛光表面粗糙度的控制方法，选择两步抛光法进行化学机械抛光，第一步选用抛光液，第二步选用去离子水的水抛液，两步抛光在同一台抛光机上完成；所述第二步的抛光工艺条件为流量300g‑500g/min、温度20‑30℃、抛光压力0‑2psi；抛光液组分，包括磨料粒径15‑60nm、浓度≥40％、硬度≤7Mohs的SiO2 2‑50％，活性剂0.5‑1.0％，螯合剂0.5‑1.0％，pH调节剂0.5‑2％。有益效果：选用两步抛光法，在同一台抛光机上第一步抛光可实现高去除，第二步水抛可实现低粗糙的表面控制要求。减小了材料损伤层，有效提高其表面的光洁度。