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一种基于薄膜半导体‑石墨烯异质结的光电探测器制备方法

摘要

本发明提供一种基于薄膜半导体‑石墨烯异质结的光电探测器制备方法,包括步骤:首先,提供一衬底,在所述衬底表面两侧生长金属电极;然后在所述衬底及金属电极表面生长薄膜半导体层;接着,去除部分薄膜半导体层,暴露出其中一侧的金属电极以及部分衬底;接着在整个结构表面形成石墨烯层;最后,去除所述薄膜半导体层表面多余的石墨烯层,剩下的石墨烯层与所述薄膜半导体层接触,形成异质结。本发明通过ALD技术生长薄膜半导体与石墨形成异质结作为光电探测器的有源区,该结构可以制备在任意半导体、绝缘体、甚至柔性衬底上,易于硅基集成,且有效节约了工艺成本。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-27

    授权

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  • 2016-01-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/028 申请日:20150918

    实质审查的生效

  • 2015-12-30

    公开

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