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兼容标准CMOS工艺的伪差分结构非易失性存储器

摘要

本发明公开了一种兼容标准CMOS工艺的伪差分结构非易失性存储器,解决了不能与标准CMOS工艺兼容问题,采用了差分输出结构,缩小了存储单元结构的面积,包括多个存储单元,每个存储单元包括控制管、第一隧穿管、第二隧穿管、第三隧穿管、第一转换管、第二转换管、第一选择管和第二选择管共8个晶体管,所有的晶体管均为单多晶硅栅结构和相同厚度的栅氧化层,该存储单元与标准CMOS工艺兼容;本发明降低应用成本,减少技术开发周期,稳定性好,读取速度比较快,可靠性高。

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法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-16

    授权

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  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C 16/26 申请日:20140722

    实质审查的生效

  • 2014-11-19

    公开

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