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公开/公告号CN105776331B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-06-30
原文格式PDF
申请/专利权人 东北大学;
申请/专利号CN201610062671.X
发明设计人 李继光;黄塞;朱琦;孙旭东;
申请日2016-01-29
分类号C01G31/00(20060101);
代理机构21109 沈阳东大知识产权代理有限公司;
代理人梁焱
地址 110819 辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
入库时间 2022-08-23 09:57:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-30
授权
2016-08-17
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 31/00 申请日:20160129
实质审查的生效
2016-07-20
公开
机译: 透明质酸掩模版的制备方法,可以通过上述方法得到透明质酸掩模版,并在其中含有透明质酸掩模版的植入物及其用途。
机译: 热敏模版,模版印刷母版的制备方法和模版印刷机
机译: 热敏模版,模版印刷母版的制备方法及模版印刷机
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机译:充电耗散掩模版清洁掩模版
机译:用于防止光刻系统中掩模版滑移的压电驱动掩模版辅助装置的设计和控制
机译:硅膜的应力引起的模版掩模版的图案变形和抵抗在掩模版上
机译:具有弯曲边界的应用的高阶自适应延长模版有限元方法
机译:模版印刷-一种用于光分散性光盘的新型制造平台
机译:一种尺寸不能完全满足:在FPGA上进行迭代模版计算的实现权衡
机译:采用具有在其上形成的预选视觉响应图案的掩模版的光学仪器