用于抛光晶片的带有窗口系统的磨具及其应用方法

摘要

本发明涉及一种对晶片或其他工件的表面(22)进行平面化或抛光或其它修饰的加工过程。这一过程使用有形貌结构磨料涂层的磨具(140)，该磨料涂层(146)粘结于背衬上。磨具上有一个监测部分，如窗口(148)，能允许辐射透过。平面化加工中，通过监测辐射量来确定加工终点。磨料涂层的窗口区域可以没有磨料涂层，或只有很少即很薄的磨料涂层。