聚对氨基苯磺酸/印迹聚邻苯二胺修饰电极及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种聚对氨基苯磺酸/印迹聚邻苯二胺修饰电极及其制备方法和应用，所述方法包括：a、将目标电极置于第一缓冲溶液中采用循环伏安法进行扫描制备聚对氨基苯磺酸修饰电极的工序；b、将所述聚对氨基苯磺酸修饰电极置于第二缓冲溶液中采用循环伏安法进行扫描制备聚邻苯二胺修饰电极的工序；c、将所述聚邻苯二胺修饰电极进行洗脱制备聚对氨基苯磺酸/印迹聚邻苯二胺修饰电极的工序；其中，所述第一缓冲溶液含有对氨基苯磺酸，所述第二缓冲溶液含有扑热息痛、邻苯二胺和氯化钾。通过该方法制得的聚对氨基苯磺酸/印迹聚邻苯二胺修饰电极对扑热息痛具有强的电流响应信号和优异的选择性。