首页> 中国专利> 用于制备具有低氧含量的铜电沉积物的添加剂

用于制备具有低氧含量的铜电沉积物的添加剂

摘要

本发明涉及一种用于制备铜电沉积物的铜电镀浴。该铜电镀浴包含(a)可溶的铜盐、(b)包含一种以上的酸的电解质、以及(c)包含烷基、芳基或烷基芳基二胺的晶粒细化添加剂。该铜电镀浴可用于制备具有低氧含量的电铸铜沉积物。

著录项

  • 公开/公告号CN104428452B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 麦克德米德尖端有限公司;

    申请/专利号CN201380027336.0

  • 发明设计人 T·皮尔逊;

    申请日2013-04-15

  • 分类号

  • 代理机构北京三幸商标专利事务所(普通合伙);

  • 代理人刘激扬

  • 地址 美国康涅狄格州

  • 入库时间 2022-08-23 09:56:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-17

    授权

    授权

  • 2015-04-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/38 申请日:20130415

    实质审查的生效

  • 2015-03-18

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号