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用于光刻设备投影物镜的像质补偿机构

摘要

本发明公开一种用于光刻设备的折反射物镜像质补偿机构,其特征在于,其中包括:像质补偿机构,用于补偿投影像质。较之现有技术方案,本发明能够实现:1、能同时检测补偿反射镜反射表面的面型与温度;2、在对补偿镜面型进行控制的同时,可以检测当前反射表面面型,进行闭环控制提高调整精度;3、本发明提供的方案可以直接检测反射表面的面型再在背后补偿,从而不需要如上述专利所提出的需要复杂的蜂巢状结构。

著录项

  • 公开/公告号CN104777717B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201410011640.2

  • 发明设计人 曹昌智;梁任成;

    申请日2014-01-10

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-26

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20140110

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-04-12

    授权

    授权

  • 2017-04-12

    授权

    授权

  • 2015-08-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20140110

    实质审查的生效

  • 2015-08-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20140110

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    公开

    公开

  • 2015-07-15

    公开

    公开

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