用于在朝向电镀浴槽中的晶片进入期间减少空气截留的润湿波浪前锋控制

摘要

本文中所描述的方法管理朝向电解液中的晶片进入以便减少因晶片及/或晶片保持器与所述电解液的初始撞击所致的空气截留，且以使得在所述晶片的整个浸没期间维持电解液润湿波浪前锋从而也使空气截留最小化的方式使所述晶片移动。