法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-07-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C12Q 1/68 授权公告日:20060118 申请日:20020219
专利权的终止
2006-01-18
授权
授权
2003-11-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-09-03
公开
公开
2002-06-12
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: X射线探测器的阵列基体,X射线探测器的阵列基体的制造方法,包括该X射线探测器的阵列式数字X射线探测器,以及X射线探测器的制造方法
机译: 用于制造探针阵列的光致抗蚀剂组合物,使用光致抗蚀剂组合物制造光探针阵列的方法,用于光敏型显影的底部抗反射涂层的组合物,使用相同的图案制造方法以及使用相同的制造方法来制造
机译: 用于DNA探针合成和检测的光学开关阵列组件