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受光元件、受光元件阵列、制造受光元件的方法以及制造受光元件阵列的方法

摘要

本发明提供一种受光元件,其在近红外区域中具有灵敏度且其中易于获得良好的晶体品质,可在高准确度下容易地形成受光元件的一维或二维阵列,并能够降低暗电流;受光元件阵列;及其制造方法。所述受光元件包含III-V族化合物半导体层叠结构,所述层叠结构包含内部具有pn结15的吸收层3,其中所述吸收层具有由III-V族化合物半导体构成的多量子阱结构,所述pn结15通过将杂质元素选择性扩散到所述吸收层中而形成,将由III-V族半导体构成的扩散浓度分布控制层设置成和所述吸收层的一侧相接触,所述吸收层的所述一侧和所述吸收层的与所述III-V族化合物半导体衬底相邻的一侧相反,所述扩散浓度分布控制层的带隙能量比所述III-V族化合物半导体衬底的带隙能量小,选择性扩散到所述扩散浓度分布控制层中的所述杂质元素的浓度随着朝向所述吸收层而降低至5×1016/cm3以下。

著录项

  • 公开/公告号CN102265411B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-06-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友电气工业株式会社;

    申请/专利号CN200980152161.X

  • 申请日2009-07-24

  • 分类号H01L31/10(20060101);H01L21/203(20060101);H01L21/205(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人陈海涛;樊卫民

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-06-11

    授权

    授权

  • 2012-01-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/10 申请日:20090724

    实质审查的生效

  • 2011-11-30

    公开

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